{"id":2548,"date":"2026-06-01T09:14:59","date_gmt":"2026-06-01T01:14:59","guid":{"rendered":"http:\/\/walleglobal.com\/?post_type=products&p=2548"},"modified":"2026-07-01T17:41:29","modified_gmt":"2026-07-01T09:41:29","slug":"bestfluor-3275","status":"publish","type":"products","link":"https:\/\/walleglobal.com\/pt\/products\/bestfluor-3275\/","title":{"rendered":"Bestfluor 3275"},"content":{"rendered":"
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C\u00f3digo de temperatura elevada<\/h2>\n<\/div>\n\n\n\n
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Dispon\u00edvel para fabrica\u00e7\u00e3o sob medida em preto, branco e azul<\/p>\n<\/div>\n<\/div><\/div>\n\n\n\n

C\u00f3digo de temperatura elevada<\/td>Bestfluor\u00ae 3275<\/td><\/tr>
Dureza<\/td>75~90<\/td><\/tr>
Faixa de temperatura<\/td>-15\u00b0C ~ +315\u00b0C<\/td><\/tr>
O Bestfluor\u00ae 3275 \u00e9 um conjunto de perfluoroelastomer (FFKM) de baixa compress\u00e3o e cor preta, concebido para ambientes de processo de semicondutores secos e \u00famidos. Possui excelente resist\u00eancia qu\u00edmica, boas propriedades mec\u00e2nicas e excelente estabilidade t\u00e9rmica, com baixa perda de peso em plasmas reativos e boa resist\u00eancia ao ciclo t\u00e9rmico. N\u00e3o recomendado para ambientes com aminas. Disponibiliza-se como op\u00e7\u00e3o p\u00f3s-limpeza ultrassens\u00edvel e embalagem limpa.<\/td><\/tr><\/tbody><\/table><\/figure>\n\n\n\n
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Contato<\/a><\/div>\n<\/div>\n<\/div><\/div>\n\n\n\n
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\u00c1rea de Aplica\u00e7\u00e3o<\/strong><\/div>
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  • Processos de secagem de semicondutores<\/strong>: Tampas para processos de plasma, deposi\u00e7\u00e3o e equipamento de grava\u00e7\u00e3o<\/li>\n\n\n\n
  • Processos \u00famidos em semicondutores<\/strong>Selas para limpeza, grava\u00e7\u00e3o, descarregamento de fotoresist e entrega de produtos qu\u00edmicos de alta pureza<\/li>\n\n\n\n
  • Sistemas de fluidos ultra-puros<\/strong>Veda\u00e7\u00f5es para linhas de \u00e1gua de alta pureza, \u00e1cidos fortes, oxidantes e solventes org\u00e2nicos<\/li>\n\n\n\n
  • Veda\u00e7\u00e3o a alta temperatura<\/strong>: Rosques e selos personalizados para temperaturas elevadas e ciclos t\u00e9rmicos em ferramentas para semicondutores<\/li>\n<\/ul>\n<\/div><\/div>\n<\/div><\/div>\n\n\n\n
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    Caracter\u00edsticas<\/strong><\/strong><\/div>
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    1. Propriedades f\u00edsicas fundamentais<\/strong><\/strong><\/h3>\n\n\n\n
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    • Cor: preta, branca e azul; Dureza Shore A: 75~90<\/li>\n\n\n\n
    • Resist\u00eancia \u00e0 tra\u00e7\u00e3o: 16,88 MPa; Aumento na ruptura: 150%<\/li>\n\n\n\n
    • Temperatura m\u00e1xima de servi\u00e7o cont\u00ednua: 315\u00b0C<\/strong>, exposi\u00e7\u00e3o a temperaturas mais elevadas por per\u00edodos curtos de tempo foi permitida<\/li>\n\n\n\n
    • Conjunto de compress\u00e3o: 25% a 204\u00b0C\/70h; permanece baixo (45%) mesmo a 300\u00b0C<\/li>\n<\/ul>\n\n\n\n

      2. Vantagens espec\u00edficas para semicondutores<\/strong><\/strong><\/h3>\n\n\n\n
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      • Baixa perda de peso<\/strong> no plasma reativo, m\u00ednima contamina\u00e7\u00e3o de part\u00edculas<\/li>\n\n\n\n
      • Excelente resist\u00eancia a compostos semicondutores: Piranha, SC-1\/SC-2, HF, H\u2082SO\u2084, HNO\u2083, NMP, etc., com incha\u00e7\u00e3o extremamente baixa em volume<\/li>\n\n\n\n
      • Desempenho est\u00e1vel sob ciclos t\u00e9rmicos para veda\u00e7\u00e3o de longa dura\u00e7\u00e3o<\/li>\n<\/ul>\n<\/div><\/div>\n<\/div><\/div>\n<\/div>\n<\/div><\/div>\n\n\n\n
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